| 规格 | 目录价格 | 上海 | 安徽 | 武汉 | 成都 | 北方 | 深圳 | 会员价格 | 数量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1mg | ¥ ưƎțũǜǜ | > 1 | -- | 1 | 1 | 1 | 1 | ¥ ưƎțũǜǜ | - + |
| 25mg | ¥ ƦNJȁũǜǜ | > 1 | -- | -- | -- | 1 | -- | ¥ ƦNJȁũǜǜ | - + |
| 1g | ¥ ƀNJưũǜǜ | 7 | -- | -- | -- | -- | -- | ¥ ƀNJưũǜǜ | - + |
| 5g | ¥ ưŴƎNJũǜǜ | 1 | -- | -- | -- | -- | -- | ¥ ưŴƎNJũǜǜ | - + |
| 1g | 请询价 | -- | -- | -- | -- | -- | -- | -- | - + |
| 25g | 请询价 | -- | -- | -- | -- | -- | -- | -- | - + |
| 1g | 请询价 | -- | -- | -- | -- | -- | -- | -- | - + |
[1]. Zhiwei Sun, et al. Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Template. Adv Mater. 215 Aug 5;27(29):4364-7.


H31-H315-H317-H318-H334
P261-P264-P27-P272-P28-P284-P32+P352-P34+P34-P33-P362+P364-P45-P51
GHS5,GHS6,GHS8